+8613140018814
Cele napylające 99,99% niklu
video
Cele napylające 99,99% niklu

Cele napylające 99,99% niklu

Cele do napylania niklem 99,99% Opis Materiał docelowy to materiał stosowany jako źródło rozpylania lub parowania w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD) lub chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD), a jego czystość określa jakość powłoki. Cele napylające 99,99% niklu...
Wyślij zapytanie
Product Details ofCele napylające 99,99% niklu

Opis celów napylania niklu 99,99%.

Materiałem docelowym jest materiał stosowany jako źródło rozpylania lub parowania w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD) lub chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD), a jego czystość decyduje o jakości powłoki. Cele napylające 99,99% niklu są najczęstszymi celami używanymi do wytwarzania cienkich warstw do urządzeń półprzewodnikowych. Wykorzystuje się je do wytwarzania pamięci MRAM, urządzeń sieci neuronowych, materiałów termoelektrycznych, ogniw słonecznych itp. w celu poprawy współczynnika przewodzenia i żywotności urządzeń elektronicznych.
Cechy tarcz napylających 99,99% niklu
1. Dobra obrabialność: można go łatwo przetworzyć do pożądanego kształtu i rozmiaru za pomocą różnych technologii obróbki
2. Silna odporność na korozję: może pracować stabilnie w trudnych warunkach, takich jak utrzymywanie stabilnej wydajności w warunkach kwaśnych lub zasadowych, szczególnie nadaje się do środowisk przemysłowych o silnej korozji chemicznej.
3. Wysoka czystość: czystość przekracza 99,99%, co może skutecznie ograniczyć wprowadzanie zanieczyszczeń i poprawić wydajność produktu końcowego.
4. Dobra przewodność cieplna i elektryczna, wysoka wytrzymałość i dobra ciągliwość
5. Jednolita mikrostruktura, specyficzne właściwości elektryczne i magnetyczne, długa żywotność

Dane techniczne obiektów napylających 99,99% niklu:

Stopień

4N

Technika

Prasowanie izostatyczne na gorąco, spiekanie, kucie, wyżarzanie

Czystość

99.99%

Grubość

3 mm-20 mm

Średnica

10-400mm

Temperatura topnienia

1453 stopień

Gęstość

8,91 g/cm23

Kształt

Dyski

Powierzchnia

Polerowanie, czyszczenie alkaliami, szlifowanie, czarny tlenek

Orzecznictwo

ISO 9001

Zdjęcie celów napylania 99,99% niklu

High Purity Nickel Sputter Target

Nickel Sputtering Target

Popularne Tagi: Cele do napylania niklu 99,99%, dostawcy, producenci, fabryki, dostosowane, hurt, cena, oferta cenowa, na sprzedaż

Wyślij zapytanie

(0/10)

clearall